地下鋼質(zhì)加油加氣油氣儲罐及儲備庫的

陰極保護(hù)犧牲陽極措施

一、埋地鋼制儲罐陰極保護(hù)措施的必要性

1、罐底上表面的腐蝕罐底上表面的腐蝕主要表現(xiàn)為電化學(xué)腐蝕。由于油品存儲、輸轉(zhuǎn)期間所攜帶的水分及由氣相水蒸氣的凝結(jié)水下沉的水分都沉積在罐底部，少則200-300mm，多則可達(dá)800mm[2]。由于這部分含油污水的礦化度很高，含Cl-高或含有大量的硫酸鹽還原菌，當(dāng)溶有H2S、CO2等有害物質(zhì)時(shí)，使得罐底部的腐蝕性很強(qiáng)。當(dāng)采用加熱盤管時(shí)，溫度的因素及盤管支架焊接時(shí)形成的電偶因素都將加劇它的腐蝕。

2、罐底下表面的腐蝕：

土壤腐蝕：儲罐基礎(chǔ)以砂層和瀝青砂為主要構(gòu)造，罐底板坐落在瀝青砂面上。由于罐中滿載和空載交替，冬季和夏季溫度及地下水的影響，使得瀝青砂層上出現(xiàn)斷裂縫，致使地下水上升，接近罐的底板造成腐蝕。當(dāng)油罐的溫度較高時(shí)，使得底板周圍地下水蒸發(fā)，造成鹽分濃度增加，提高了它的腐蝕性。 

氧濃差電池腐蝕：在罐底，氧濃差主要表現(xiàn)在罐底板與砂基礎(chǔ)接觸不良，如滿載和空載比較，空載時(shí)接觸不良；再有罐周和罐中心部位的透氣性差別，也會引起氧濃差電池，這時(shí)中心部位成為陽極而被腐蝕。 雜散電流的腐蝕：罐區(qū)是地中電流較為復(fù)雜的區(qū)域。當(dāng)站內(nèi)管網(wǎng)有陰極保護(hù)而罐未受保護(hù)時(shí)，則可能形成雜散電流干擾影響；周圍有電焊機(jī)施工、電氣化鐵路、直流用電設(shè)備。都有可能產(chǎn)生雜散電流。

二、埋地鋼制儲罐儲備庫陰極保護(hù)參考標(biāo)準(zhǔn)

1、SH3022-1999《石油化工設(shè)備和管道涂料防腐蝕技術(shù)規(guī)范》

2、SY0007-1999《鋼制管道及儲罐腐蝕控制工程設(shè)計(jì)規(guī)范》

3、SY/T0319-1998《鋼制儲罐液體環(huán)氧涂料內(nèi)防腐層技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)》

4、SY/T0088-1995《鋼制儲罐罐底外壁陰極保護(hù)技術(shù)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)》

5、SY/T0047-1999《原油處理容器內(nèi)部陰極保護(hù)系統(tǒng)技術(shù)規(guī)范》

6、GB/T4948-2002《鋁-鋅-銦合金犧牲陽極》

7、SY/T0087-95《鋼質(zhì)管道及儲罐腐蝕與防護(hù)調(diào)查方法標(biāo)準(zhǔn)》

8、BS7361 《陰極保護(hù)-陸上海上設(shè)計(jì)規(guī)范》

9、SY/T 0088-95《鋼制儲罐罐底外壁陰極保護(hù)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)》

10、SY 0007—1999《鋼制管道及儲罐腐蝕控制工程設(shè)計(jì)規(guī)范》

11、AS 2832-2 金屬陰極保護(hù)指南：壓實(shí)埋地結(jié)構(gòu)

12、 AS 1939 電器設(shè)備外殼保護(hù)等級 (IP 編號)

13、AS 2380 爆燃性空氣中的電器設(shè)備－防爆技術(shù)

14、AS/NZS 2381 爆燃性空氣中的電器設(shè)備－選擇、安裝和維護(hù)

15、AS 2430 危險(xiǎn)區(qū)域分級

16、AS/NZS 3000 配線規(guī)則

17、AS 3439 低壓開關(guān)和控制裝置－控制電路設(shè)備和開關(guān)部件(5.1部分)

18、NACE RP-02-85 金屬制埋地、部分埋地或水中的儲存系統(tǒng)外部腐蝕控制的操作與控制建議。

 三、埋地鋼制儲罐儲備庫陰極保護(hù)系統(tǒng)的選擇埋地儲罐長期處于陰暗潮濕的環(huán)境中，極易腐蝕。為此，對管體防腐蝕有更高要求，應(yīng)采用涂料和陰極保護(hù)聯(lián)合防腐。涂料防腐：采用環(huán)氧富鋅底漆—環(huán)氧煤焦油瀝青漆—玻璃布—環(huán)氧煤焦油瀝青漆—玻璃布—環(huán)氧煤焦油瀝青漆—環(huán)氧煤焦油瀝青面漆，即，總厚度≥0.6mm。埋地鋼制儲罐陰極保護(hù)：一般采用鎂合金陽極陰極保護(hù)。同時(shí)采用長效埋地Cu/CuSO4參比電極，保護(hù)電位負(fù)于-0.85V?；蜉^原自然電位負(fù)移0.25V。四、埋地鋼制儲罐儲備庫陰極保護(hù)系統(tǒng)運(yùn)行測試維護(hù)保護(hù)電位測試：儲罐投入運(yùn)行一定時(shí)間后，測定保護(hù)電位是否達(dá)到設(shè)計(jì)要求，即小于-0.85V(相對Cu/飽和CuSO4電極)；測定其保護(hù)電位。